特許
J-GLOBAL ID:200903023460644947
光ヘッド装置の製造方法及び光ヘッド装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-286150
公開番号(公開出願番号):特開平9-127335
出願日: 1995年11月02日
公開日(公表日): 1997年05月16日
要約:
【要約】【課題】光の利用効率を高め、安価に製造できる光ヘッド装置を提供する。【解決手段】1表面に深さ1.55μm、ピッチ9μmの断面が矩形状のSiO2 からなる凹凸部2を形成した屈折率1.54のガラス基板1と、1表面に配向膜のポリイミド膜4を形成した第2のガラス基板3とを積層し凹凸部2に液晶6を真空注入した。P波の透過率は約95%で、S波の±1次回折光の回折効率は各々32%であった。
請求項(抜粋):
光源からの光を回折素子を通して光記録媒体上に照射することにより情報の書き込み及び/又は情報の読み取りを行う光ヘッド装置の製造方法において、透明基板の表面にSiO2 膜を被覆し、次いで前記SiO2 膜を微細加工して格子状の凹凸部を形成し、前記凹凸部に光学異方性を有する液晶を充填して光学異方性回折格子を形成することにより前記回折素子を製造することを特徴とする光ヘッド装置の製造方法。
IPC (4件):
G02B 5/30
, G02B 5/18
, G02F 1/13 505
, G11B 7/135
FI (4件):
G02B 5/30
, G02B 5/18
, G02F 1/13 505
, G11B 7/135 A
引用特許:
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