特許

J-GLOBAL ID：200903023469802871

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-023967
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224407
出願日： 1992年02月10日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表される化合物を含有する。【化1】ここで、R1:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、アセトキシ基、アシル基、もしくはアロキシル基、R2:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、もしくはカルボキシル基、m:1〜4の整数、n:1〜4の整数、を表す。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R1:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、アセトキシ基、アシル基、もしくはアロキシル基、R2:水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、もしくはカルボキシル基、m:1〜4の整数、n:1〜4の整数、を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027