特許

J-GLOBAL ID：200903023472009279

露光装置及び露光方法

発明者： 太田 和哉
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-115053
公開番号（公開出願番号）：特開平10-294272
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】 ウェハ表面における空気揺らぎに起因する、オートフォーカスやアライメントの精度劣化の問題を解決することのできる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置1の投影光学系PLとウェハWとの間の空間を遮風する遮風筒7を設け、同空間内の気流を抑止する。アライメント中や露光中は遮風筒7を下降させて遮風筒内の気流を抑止し、アライメント光やAF光、露光光の揺らぎを防止する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感応基板上に転写する露光装置において、前記投影光学系と前記感応基板との間の空間及び/又は前記投影光学系と前記マスクとの間の空間を遮風する遮風部材を設け、該遮風部材によって遮られた空間内の気流を抑止したことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D