特許

J-GLOBAL ID：200903023472564345

光吸収膜の形成方法および形成装置

発明者： 中島 靖志
出願人/特許権者： 日産自動車株式会社
代理人 (1件)： 和泉 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197928
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013207
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】良好な成膜条件を安定かつ容易に実現できる光吸収膜の形成方法を提供する。【解決手段】結晶がデンドライト成長した多孔質の金属蒸着膜からなる光吸収膜を真空蒸着で形成する方法であって、蒸着用ボート9を用いた抵抗加熱法を用い、適切な膜質が実現できた場合に蒸着用ボートを流れる電流と電圧から求めた電力投入値の時間プロファイルを予め測定してコンピュータ17に記憶しておき、蒸着時に蒸着用ボートを流れる電流と電圧から求めた電力を上記の記憶した時間プロファイルに一致させるように制御する光吸収膜の形成方法。良好な光吸収膜が得られた条件では蒸発速度の変動に関わる投入電力値が±5%程度の偏差の範囲に収まり、蒸着用ボートヘの投入電力と形成膜質との間に強い相関がある。したがって予め実験的に求めた適切な投入電力を正確に再現することにより、蒸着速度を適正に制御でき、良好な光吸収膜を安定かつ容易に形成できる。

請求項（抜粋）：

結晶がデンドライト成長した多孔質の金属蒸着膜からなる光吸収膜を真空蒸着によって形成する方法であって、蒸着用ボートを用いた抵抗加熱法を用い、適切な膜質が実現できた場合における上記蒸着用ボートを流れる電流と両端の電圧値を測定して求めた電力投入値の時間プロファイルを予め測定して記憶手段に記憶しておき、以後の蒸着時における上記蒸着用ボートを流れる電流と両端の電圧値との積から求めた電力を上記の記憶した電力投入値の時間プロファイルに一致させるように制御することを特徴とする光吸収膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/26 ,  G01J 5/02

FI (3件)：

C23C 14/24 U ,  C23C 14/26 A ,  G01J 5/02 B

Fターム (12件)：

2G066BA08 ,  2G066BA55 ,  2G066BA60 ,  4K029BA01 ,  4K029BA05 ,  4K029BB08 ,  4K029BC07 ,  4K029BD03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029DB18 ,  4K029EA09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-282268
  
• 特開平1-272760
  
• ルツボ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-310419   出願人：石川島播磨重工業株式会社