特許

J-GLOBAL ID：200903023481495631

フォトレジスト剥離液

発明者： 管家 了 ,  芥川 由臣志 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士フイルムオーリン株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-329872
公開番号（公開出願番号）：特開平10-171130
出願日： 1996年12月10日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 従来の技術の課題に照らしてより優れたレジスト剥離液が得られ、特にレジストの除去性に加え、エッチングポリマーの除去性と基板の腐食防止とを両立させ、かつ保存中や使用中に性能変化の少ない安定なフォトレジスト剥離液を得ることができる。【解決手段】 (a)有機アミン及び(b)特定の含窒素化合物を含有することを特徴とするフォトレジスト剥離液。

請求項（抜粋）：

(a)有機アミン及び(b)下記[一般式I]で表される含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト剥離液。【化1】R1 、R2 :同一または互いに異なる置換基でHもしくはアルキル基、アリール基、アラルキル基、スルホン酸基、アミノ基、カルボキシル基、アミド基、アシル基、カルボキシル基のアルキルエステル(炭素原子数1〜3)、スルホン酸基のアルキルエステル(炭素原子数1〜3)もしくは環形成基を示し、R3 〜R8 :同一または互いに異なる置換基でHもしくはアルキル基、アリール基、アラルキル基、スルホン酸基、アミノ基、カルボキシル基、アミド基、アシル基、カルボキシル基のアルキルエステル(炭素原子数1〜3)、スルホン酸基のアルキルエステル(炭素原子数1〜3)を示し、R1はR2と飽和脂肪環を形成することができ、R5〜R8はさらなる置換基アミノ基、アミド基を有することができ、R5〜R8がさらなる置換基アミノ基、アミド基を有さない場合、化合物中の全炭素原子数は11以上である。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/30 572 B