特許
J-GLOBAL ID:200903023482668777
絶縁膜用樹脂組成物およびこれを用いた絶縁膜
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-272227
公開番号(公開出願番号):特開2002-080718
出願日: 2000年09月07日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】【課題】 半導体用途において、熱特性、電気特性、吸水性に優れ、特に、比誘電率の極めて低い耐熱性の絶縁膜を提供する。【解決手段】 特定構造の繰り返し単位を有するポリアミドとオリゴマーとを必須成分とする絶縁膜用樹脂組成物。
請求項(抜粋):
一般式(1)で表される繰り返し単位を有するポリアミドとオリゴマーとを必須成分とすることを特徴とする絶縁膜用樹脂組成物。【化1】(但し、式中のmおよびnは、m>0、n≧0、2≦m+n≦1000、及び0.05≦m/(m+n)≦1を満たす整数である。また、Xは式(2)、Yは式(3)、Zは式(4)で表される構造より、それぞれ選ばれる基を表す。)【化2】【化3】【化4】(但し、式(2)および式(4)中、X1は式(5)で表される構造より選ばれる基を示す。また、式(2)、式(3)、式(4)および式(5)の構造中、ベンゼン環上の水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、フッ素原子、及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる、少なくとも1個の基で置換されていても良い。)【化5】
IPC (4件):
C08L 79/04
, C08G 73/22
, C08L101/00
, H01L 21/312
FI (4件):
C08L 79/04 B
, C08G 73/22
, C08L101/00
, H01L 21/312 A
Fターム (45件):
4J002CG002
, 4J002CH052
, 4J002CK002
, 4J002CL002
, 4J002CM011
, 4J043PA04
, 4J043QB15
, 4J043QB21
, 4J043QB34
, 4J043SA54
, 4J043TA47
, 4J043UA121
, 4J043UA122
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UA141
, 4J043UA142
, 4J043UA151
, 4J043UA152
, 4J043UA161
, 4J043UA162
, 4J043UA231
, 4J043UA232
, 4J043UA261
, 4J043UA262
, 4J043UB021
, 4J043UB022
, 4J043UB031
, 4J043UB032
, 4J043UB051
, 4J043UB052
, 4J043UB101
, 4J043UB121
, 4J043UB122
, 4J043UB131
, 4J043UB132
, 4J043UB301
, 4J043ZA46
, 4J043ZB47
, 5F058AA04
, 5F058AA10
, 5F058AC10
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AH02
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