特許

J-GLOBAL ID：200903023487000812

基板処理装置

発明者： 柴尾 卓也
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-279745
公開番号（公開出願番号）：特開2001-097552
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 仕切り領域を仕切る遮断部材に処理液ミストが付着するのを解消する。【解決手段】 仕切り部材で仕切り領域を廃幣する仕切り機構を、遮断部材を複数の分割遮断部材20A、20Bに分割し、それら分割遮断部材は板状であって、その表面に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて配置し、ファンフィルターユニットによって、仕切り領域に配置された第1、第2の分割遮断部材20A、20Bに対して上方から下方に向けて清浄な気体ARを流下する。

請求項（抜粋）：

仕切り領域と収納領域との間で遮断部材を移動させて前記仕切り領域を開閉する仕切り開閉手段を備えた基板処理装置において、前記遮断部材は分割された複数の分割遮断部材で構成し、前記仕切り領域を閉じるように前記各分割遮断部材ごとに割り当てられた各配置位置と、前記各分割遮断部材ごとに設けた各収納領域との間で、前記各分割遮断部材をそれぞれ移動させる移動手段を備えるとともに、前記仕切領域にて、前記分割遮断部材の表面に沿って流れる雰囲気遮断用の気流を生ずる遮断用気流形成手段を備え、前記各分割遮断部材は板状であって、その表面に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて、前記各配置位置に配置することを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

B65G 49/00 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

B65G 49/00 C ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/68 A ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/306 J

Fターム (20件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA03 ,  5F031GA49 ,  5F031HA72 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA25 ,  5F031NA02 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F031NA20 ,  5F043EE02 ,  5F043EE15 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE37 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10