特許
J-GLOBAL ID:200903023488938520

水分散体の製造方法およびその水分散体

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-391791
公開番号(公開出願番号):特開2002-194012
出願日: 2000年12月25日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】乳化重合により作成した高分子乳化剤を使用して乳化重合を行う水分散体の製造方法で、重合時に凝集物の発生しない安定な水分散体の製造方法を提供するとともに、光沢やブロッキング性に優れた水分散体を提供する【解決手段】カルボキシル基含有不飽和単量体とカルボニル基含有不飽和単量体とを含むラジカル重合可能な不飽和単量体(X)を乳化重合して1次重合体(a)とする第1の工程;前記1次重合体(a)を塩基性物質で中和して1次重合体(a’)とする第2の工程;および、ラジカル重合性の不飽和基を2個以上有する不飽和単量体を含むラジカル重合可能な不飽和単量体(Y)を、前記1次重合体(a’)の存在下で乳化重合して2次重合体(b)とする第3の工程を含む3つの工程から水分散体(c)を合成し、さらに、ヒドラジド化合物を添加してなる水分散体(d)の製造方法。
請求項(抜粋):
5〜25重量%のカルボキシル基含有不飽和単量体と1〜10重量%のカルボニル基含有不飽和単量体とを含むラジカル重合可能な不飽和単量体(X)を乳化重合して1次重合体(a)とする第1の工程;前記1次重合体(a)を塩基性物質で中和して1次重合体(a’)とする第2の工程;および、不飽和単量体(Y)全体に対して0.1〜10重量%のラジカル重合性の不飽和基を2個以上有する不飽和単量体を含むラジカル重合可能な不飽和単量体(Y)を、前記1次重合体(a’)の存在下で乳化重合して2次重合体(b)とする第3の工程を含む3つの工程から水分散体(c)を合成し、さらに、水分散体(c)に含まれるカルボニル基に対してモル当量比で0.5〜1.5であるヒドラジド化合物を添加してなる水分散体(d)の製造方法。
IPC (5件):
C08F 2/24 ,  C08F 8/00 ,  C08F 8/44 ,  C08F220/00 ,  C09D 11/00
FI (5件):
C08F 2/24 ,  C08F 8/00 ,  C08F 8/44 ,  C08F220/00 ,  C09D 11/00
Fターム (68件):
4J011KA15 ,  4J011KB29 ,  4J039AD02 ,  4J039AD09 ,  4J039AD10 ,  4J039AD12 ,  4J039AD13 ,  4J039AD17 ,  4J039AD23 ,  4J039AE07 ,  4J039AF03 ,  4J039BC14 ,  4J039BC38 ,  4J039BE01 ,  4J039BE12 ,  4J039BE22 ,  4J039BE25 ,  4J039CA06 ,  4J039EA33 ,  4J039EA38 ,  4J039EA39 ,  4J039EA43 ,  4J039GA09 ,  4J100AB16Q ,  4J100AF06R ,  4J100AG70Q ,  4J100AG71Q ,  4J100AJ01P ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08P ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09P ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08R ,  4J100AL09P ,  4J100AL10P ,  4J100AL62Q ,  4J100AL63Q ,  4J100AL66Q ,  4J100AL67Q ,  4J100AM02P ,  4J100AM21P ,  4J100AM21R ,  4J100AN04R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA13R ,  4J100BA14R ,  4J100BA15R ,  4J100BC45Q ,  4J100FA20 ,  4J100HA31 ,  4J100HA53 ,  4J100HB43 ,  4J100HC43 ,  4J100HC45 ,  4J100HC47 ,  4J100HC54 ,  4J100HC64 ,  4J100JA01
引用特許:
審査官引用 (7件)
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