特許

J-GLOBAL ID：200903023492813660

有機ヒ素化合物の処理方法

発明者： 渋谷 守 ,  藤堂 福蔵 ,  小西 裕和
出願人/特許権者： 日揮株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-341485
公開番号（公開出願番号）：特開2001-158622
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】 環境を汚染することなく、有機ヒ素化合物を完全に無機ヒ素に分解することができる有機ヒ素化合物の処理方法を提供する。【解決手段】 水性媒体中の有機ヒ素化合物に、鉄イオン、銅イオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属イオンの存在下、過酸化水素を反応させて、有機ヒ素化合物を無機ヒ素に酸化分解する有機ヒ素化合物の処理方法。

請求項（抜粋）：

水性媒体中の有機ヒ素化合物に、鉄イオン、銅イオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属イオンの存在下、過酸化水素を反応させて、有機ヒ素化合物を無機ヒ素に酸化分解することを特徴とする有機ヒ素化合物の処理方法。

IPC (3件)：

C01G 28/02 ,  A62D 3/00 ,  C07F 9/74

FI (3件)：

C01G 28/02 ,  A62D 3/00 ,  C07F 9/74

Fターム (13件)：

2E191BA11 ,  2E191BB00 ,  2E191BC01 ,  2E191BD11 ,  4G048AA02 ,  4G048AA07 ,  4G048AB08 ,  4G048AE01 ,  4G048AE08 ,  4H050AA05 ,  4H050BE32 ,  4H050WA13 ,  4H050WA16