特許

J-GLOBAL ID：200903023509563697

固体撮像素子及びその製造方法

発明者： 高橋 新吾
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-167005
公開番号（公開出願番号）：特開2005-005471
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】表面様相及び被覆性、さらには密着性の良い反射膜を有する導波路を形成することができる固体撮像素子の製造方法を提供するものである。【解決手段】受光センサ部2上の絶縁層中に、導波路15が設けられた固体撮像素子100を製造する方法であって、受光センサ部2上に絶縁層を形成する工程と、絶縁層に導波路15を形成するための穴16を形成する工程と、表面を覆って全面的に、スパッタリング法によりAl膜もしくはAl合金膜よりなる下地膜19を形成する工程と、表面を覆って全面的に、CVD法によりAl膜よりなる反射膜17を形成する工程と、導波路15の側壁161の下地膜19及び反射膜17を残して、それ以外の下地膜19及び反射膜17を除去する工程と、穴16に、導波路15を構成する透明材料膜18を埋め込む工程とを有する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

受光センサ部上の絶縁層中に、導波路が設けられ、 前記導波路の側壁が、CVD法により形成されたAl膜よりなる反射膜により覆われ、 前記反射膜と前記導波路の側壁との間に下地膜が形成され、 前記下地膜が、スパッタリング法により形成されたAl膜もしくはAl合金膜より形成されている ことを特徴とする固体撮像素子。

IPC (4件)：

H01L27/14 ,  H01L27/146 ,  H01L31/0232 ,  H04N5/335

FI (4件)：

H01L27/14 D ,  H04N5/335 U ,  H01L27/14 A ,  H01L31/02 D

Fターム (38件)：

4M118AB01 ,  4M118BA09 ,  4M118BA14 ,  4M118CA02 ,  4M118CA03 ,  4M118CA32 ,  4M118EA01 ,  4M118EA14 ,  4M118FA06 ,  4M118FA08 ,  4M118GA07 ,  4M118GA08 ,  4M118GA09 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  4M118GD11 ,  4M118GD14 ,  4M118GD15 ,  5C024CX41 ,  5C024CY47 ,  5C024EX42 ,  5C024GX01 ,  5C024GZ34 ,  5F088BA18 ,  5F088BB03 ,  5F088CB05 ,  5F088CB07 ,  5F088CB14 ,  5F088CB18 ,  5F088CB20 ,  5F088EA04 ,  5F088EA06 ,  5F088EA14 ,  5F088EA16 ,  5F088EA20 ,  5F088HA05 ,  5F088HA09 ,  5F088HA20