特許
J-GLOBAL ID:200903023514587758
ディスク基板の処理方法及び処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-371810
公開番号(公開出願番号):特開2003-173583
出願日: 2001年12月05日
公開日(公表日): 2003年06月20日
要約:
【要約】【課題】 短時間で反りの小さいディスク基板を得、反りの小さい品質の高い光ディスクを提供すること。光ディスクの製造時間を短くすること。【解決手段】 射出成形して得られた成形ディスク基板1’を、その成形ディスク基板が固化しない内に高速回転させると共に、成形ディスク基板1’が回転しているときにその成形ディスク基板の下面に沿って放射外方向に気体を流し、成形ディスク基板1’が固化した後に回転停止することを特徴とするディスク基板の処理方法。
請求項(抜粋):
射出成形して得られた成形ディスク基板を、その成形ディスク基板が固化しない内に高速回転させると共に、前記成形ディスク基板が回転しているときにその成形ディスク基板の下面に沿って放射外方向に気体を流し、前記成形ディスク基板が固化した後に回転停止することを特徴とするディスク基板の処理方法。
IPC (4件):
G11B 7/26 521
, B29C 45/17
, B29C 45/72
, B29L 17:00
FI (4件):
G11B 7/26 521
, B29C 45/17
, B29C 45/72
, B29L 17:00
Fターム (18件):
4F206AG19
, 4F206AH38
, 4F206AH79
, 4F206AK02
, 4F206AM35
, 4F206AR06
, 4F206AR08
, 4F206AR09
, 4F206JA07
, 4F206JN43
, 4F206JW15
, 4F206JW16
, 5D121AA02
, 5D121DD05
, 5D121DD13
, 5D121DD20
, 5D121GG28
, 5D121GG30
引用特許:
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