特許
J-GLOBAL ID：200903023515895758
焼付処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-035702
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231424
出願日： 1998年02月18日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 写真感光材料を露光処理する露光部と、露光部内に設けられた写真感光材料の露光用搬送経路を暗室状態に保持可能な暗箱と、露光部と暗箱を支持する本体とを備えた焼付処理装置において、露光部を構成する各装置を十分に点検する必要が生じた場合や、取り替えが必要な場合に、簡単に作業を実施可能な焼付処理装置を提供する。【解決手段】 暗箱3には、露光用搬送経路を暗室状態に保持した閉鎖状態と暗室状態を解除した開放状態の間で切り換える遮光扉3dを設け、遮光扉3dを開放した上で、露光部をこれが本体上に支持された状態を維持しつつ暗箱3外に移動することを許す支持機構130を設けた。
請求項（抜粋）：
写真感光材料を露光処理する露光部と、前記露光部内に設けられた写真感光材料の露光用搬送経路を暗室状態に保持可能な暗箱と、前記露光部と前記暗箱を支持する本体とを備えた焼付処理装置であって、前記暗箱は、前記露光用搬送経路を暗室状態に保持した閉鎖状態と暗室状態を解除した開放状態の間で切り換え可能であり、且つ、前記暗箱の前記開放状態において、前記露光部をこれが前記本体上に支持された状態を維持しつつ前記暗箱外に移動操作することを許す支持機構が設けられている焼付処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03B 27/32 B
, G03B 27/46
