特許
J-GLOBAL ID：200903023523658188
投影光学系の結像特性評価方法及び該方法を使用する投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067883
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260252
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 投影露光装置に使用される投影光学系の結像特性をウエハステージの走り案内面の平面度の影響を受けることなく迅速且つ正確に検出する。【解決手段】 Zチルトステージ7上に設置された基準平面板8を用いて、斜入射方式の多点の焦点位置検出系4a,4bによる複数の計測点の基準面のキャリブレーションを行う。ウエハ3の所定の表面領域を投影光学系の露光フィールド内に移動し、焦点位置検出系4a,4bによってウエハ3上の複数の計測点のZ方向の位置を同時に計測すると共に、それら複数の計測点にレチクル2の計測用パターンIPの像を露光する。ウエハ3のZ方向の位置を少しずつずらしながら同様の動作を繰り返した後、ウエハ3を現像して、ウエハ3上に形成された露光像から投影光学系1の結像特性を算出する。
請求項（抜粋）：
所定のパターンの像を感光基板上に投影露光するための投影光学系の結像特性評価方法において、前記感光基板上の複数の計測点で前記投影光学系の光軸方向の位置を検出するとともに、前記感光基板上の複数の計測点のそれぞれを評価用のパターンの像で露光する段階と、前記複数の計測点に対応して前記感光基板上に形成された評価用のパターンの像から得られる情報と、前記複数の計測点それぞれの前記光軸方向の位置とに基づいて、前記投影光学系の結像特性を評価する段階と、を含むことを特徴とする投影光学系の結像特性評価方法。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 516 Z
, H01L 21/30 526 A
