特許
J-GLOBAL ID:200903023523855536

複数の彫刻デバイスを備えた彫刻システムおよび彫刻方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-526371
公開番号(公開出願番号):特表2001-526988
出願日: 1998年12月17日
公開日(公表日): 2001年12月25日
要約:
【要約】本発明は、複数の彫刻デバイスを使用してパターンを彫刻することができるような彫刻システム(10)および彫刻方法に関するものである。本発明は、複数のヘッドによって彫刻された領域どうしが互いに隣接する場所において連続的な彫刻パターンが得られるような、複数の彫刻デバイスによる彫刻装置および彫刻方法を開示する。本発明による方法をシステムは、さらに、各彫刻ヘッド(34,36)に関連した彫刻領域を撮影するための撮像システムを備えている。これにより、あるヘッドによる彫刻領域が他のヘッドによる彫刻領域と出くわす部分において、あたかも単一のヘッドによって彫刻されたかのような外見を有した彫刻領域を形成することができる。
請求項(抜粋):
少なくとも1つのワークピースを彫刻するための彫刻システムであって、 非スタイラス型ヘッドとスタイラス型ヘッドとが設置されている彫刻ベッドと; 前記非スタイラス型ヘッドと前記スタイラス型ヘッドとの各々を個別的にかつ選択的に励起することができこれにより第1彫刻技術による彫刻と第2彫刻技術による彫刻とをのそれぞれを行い得るようにして、前記非スタイラス型ヘッドと前記スタイラス型ヘッドとに接続されたコントローラと;を具備していることを特徴とする彫刻システム。
IPC (4件):
B41C 1/045 ,  B41C 1/05 ,  B44B 3/04 ,  G03F 7/20 505
FI (4件):
B41C 1/045 ,  B41C 1/05 ,  B44B 3/04 ,  G03F 7/20 505
Fターム (17件):
2H084AA03 ,  2H084AA05 ,  2H084AA14 ,  2H084AA26 ,  2H084AA30 ,  2H084AA32 ,  2H084AE05 ,  2H084BB02 ,  2H084BB04 ,  2H084BB16 ,  2H084CC03 ,  2H097AA03 ,  2H097AA16 ,  2H097AB08 ,  2H097CA05 ,  2H097CA17 ,  2H097LA04

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