特許
J-GLOBAL ID：200903023526948594
ベースコート膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-004345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214224
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 エッチング液の侵食によるダメージや膜剥がれを確実に防止でき、素子形成時の不良率の低減および素子の製造コストの低減が図れるベースコート膜の製造方法を実現する。【構成】 スパッタリングによりガラス基板1の上に、SiO2を200nmの厚みで積層し、ベースコート膜2の1層2bを形成する。続いて、1層2bの上にTa2O5を300nmの厚みで積層し、ベースコート膜2の2層2bを形成する。これにより、2層構造のベースコート膜2を作製する。
請求項（抜粋）：
基板上に素子を形成する段階で、該基板上に形成されるベースコート膜の製造方法において、該基板上に絶縁膜を形成する工程と、該絶縁膜上に金属酸化膜を形成する工程とを含むベースコート膜の製造方法。
引用特許：
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