特許

J-GLOBAL ID：200903023527650300

アクティブマトリクス基板の製造法

発明者： 島田 尚幸 ,  山下 俊弘 ,  松島 康浩 ,  久保 真澄 ,  ▲高▼藤 裕
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-150937
公開番号（公開出願番号）：特開平5-341317
出願日： 1992年06月10日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】ガラス基板から溶出するイオン不純物による汚染を防止して、得られるアクティブマトリクス基板の特性の劣化、信頼性の低下を防止する。【構成】ガラス基板1の両面に保護膜2a、2bを形成し、その後に、ガラス基板1の一方の面の保護膜2aの上にTFTを形成する。

請求項（抜粋）：

ソーダガラスの基板の上にマトリクス状にスイッチング素子が配置されたアクティブマトリクス基板であって、該ガラス基板の両面に保護膜を形成する工程と、一方の保護膜上に該スイッチング素子を形成する工程とを包括するアクティブマトリクス基板の製造方法において、該保護膜の形成を、該ガラス基板に該スイッチング素子や配線、絵素電極等の基板要素を形成する前に行うことを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造法。

IPC (6件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/133 550 ,  G02F 1/1333 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/784