特許
J-GLOBAL ID:200903023555404226
シリコン含有排ガスの浄化用触媒
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉岡 宏嗣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-230002
公開番号(公開出願番号):特開2004-066126
出願日: 2002年08月07日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】有機シリコンを含有する排ガスに対し、活性低下の小さい燃焼触媒を提供し、高い浄化率を長時間維持できる技術を提供する。【解決手段】有機シリコンおよび揮発性有機化合物あるいは一酸化炭素を含有する排ガスを接触分解して無害化する浄化用触媒であって、Ptを担持したモルデナイト触媒表面に、ゼオライト、またはTiO2、Al2O3、SiO2の中の一種以上で保護層を形成させた。また、この保護層がTiO2、Al2O3、SiO2の中の一種以上からなる担体に、活性成分としてPtが担持され、シリコンにより劣化した触媒層の一部が内部のPt-モルデナイト触媒の保護層として機能させた。触媒内部への有機シリコンの蓄積を防止できるので、長期間、高い性能を維持でき、触媒の交換頻度を大幅に低減でき、ランニングコストも低下する。
請求項(抜粋):
有機シリコンおよび揮発性有機化合物あるいは一酸化炭素を含有する排ガスを、接触分解して無害化する浄化用触媒であって、Ptを担持したモルデナイト触媒表面に、ゼオライト、またはTiO2 、Al2 O3 、SiO2 の中の一種以上で保護層を形成させたことを特徴とするシリコン含有排ガスの浄化用触媒。
IPC (2件):
FI (2件):
B01J29/22 A
, B01D53/36 G
Fターム (25件):
4D048AA13
, 4D048AA17
, 4D048AB01
, 4D048AB03
, 4D048BA03Y
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BA11X
, 4D048BA30X
, 4D048BB02
, 4D048BC07
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA02B
, 4G069BA04B
, 4G069BA07B
, 4G069BC75B
, 4G069CA02
, 4G069CA07
, 4G069CA10
, 4G069CA11
, 4G069CA14
, 4G069EE01
, 4G069ZA06B
引用特許: