特許
J-GLOBAL ID：200903023578049245
酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法及びその方法で得られる酸化チタンナノワイヤ構造体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-375169
公開番号（公開出願番号）：特開2006-182575
出願日： 2004年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：
【課題】 ナノワイヤ形状の新規な酸化チタン構造体を、有機溶媒・界面活性剤や危険を伴う高濃度のアルカリを用いないで簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 チタン酸塩を酸性条件下で水熱処理しながら乾燥させる酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法である。そのチタン酸塩には、層状構造を持つチタン酸塩、なかでもチタン酸ナトリウムを用いることが好ましい。その水熱・乾燥処理には、濃度0.01〜0.5mol/Lの希塩酸を用いてオートクレーブ中で行うことが好ましい。その際、オートクレーブからの微小なリークにより希塩酸を徐々に蒸発させることによって水熱処理しながらゆっくりと乾燥させる。また水熱・乾燥処理温度は120〜200°Cの範囲が好ましく、その処理時間は120時間以上であることが好ましい。得られた酸化チタンナノワイヤ構造体は、色素増感太陽電池の光電極、光触媒、光・電子材料等として広範な分野に利用可能である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
チタン酸塩を酸性条件下で水熱処理及び乾燥処理を行うことを特徴とする酸化チタンナノワイヤ構造体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD04
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
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