特許
J-GLOBAL ID：200903023583095808
基板の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060081
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267259
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 互いに接触した基板と洗浄ブラシ間の相対的な回転運動と洗浄液とにより異物を除去する基板の洗浄方法に関し、特に洗浄液の使用量を低減できる基板の洗浄方法の提供を目的とする。【構成】 互いに接触した基板と洗浄ブラシ間の相対的な回転運動と洗浄液とにより、この基板に付着した異物を除去する基板の洗浄方法において、基板の水平方向の回転により相対的な回転運動を行なうとともに、洗浄ブラシから洗浄液を基板に滴下するように構成する。
請求項（抜粋）：
互いに接触した基板(11)と洗浄ブラシ(22)間の相対的な回転運動と洗浄液(12)とにより、この基板(11)に付着した異物を除去する基板の洗浄方法において、前記基板(11)の水平方向の回転により前記回転運動を行なうとともに、前記洗浄ブラシ(22)から前記洗浄液(12)を基板(11)に滴下することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/68
