パターン検査方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046151
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236416
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】的確に欠陥検出ができるパターン検査方法を提供する。【解決手段】被検査パターンを有する被検査画像I1と標準画像Io1とを重ね合わせ、画素ごとに排他的論理和を求めて、この排他的論理和を画素値として有する相違画像Ie1を得る。相違画像Ie1上にウィンドウW1を設定し、ウィンドウW1を画素を単位として相違画像Ie1上を走査させる。ウィンドウW1の各位置においてウィンドウW1内の画素の画素値の和(ウィンドウ特徴量)を求め、この値と予め設定している判定基準値と比較する。ウィンドウW1のいずれかの位置においてウィンドウ特徴量が判定基準値を越えた場合、被検査画像Iには欠陥が存在すると判定する。

請求項（抜粋）：

被検査パターンを有する被検査画像と、比較基準となる標準パターンを有する標準画像とを画素単位で比較することにより、前記被検査パターンの欠陥を検出するパターン検査方法であって、(a)前記被検査画像と前記標準画像とを画素単位で相互に比較して、前記被検査画像と前記標準画像との相違部分を画素単位の相違パターンとして表現した相違画像を生成する相違画像生成工程と、(b)前記相違画像を所定サイズのウィンドウで走査するウィンドウ走査工程と、(c)前記走査のそれぞれの位置において、前記相違パターンのうち前記ウィンドウ内に存在する部分の画素数に応じたウィンドウ特徴量を求める演算工程と、(d)前記ウィンドウ特徴量と所定の判定基準値とを比較して前記被検査パターンにおける欠陥の有無を判定する判定工程と、を有することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (3件)：

G01B 11/24 , G01N 21/88 , G06T 7/00

FI (6件)：

G01B 11/24 F , G01B 11/24 H , G01N 21/88 E , G06F 15/62 405 A , G06F 15/70 330 E , G06F 15/70 455 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-267649
パターン評価方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-126814 出願人：株式会社東芝
特開昭62-267649

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