特許
J-GLOBAL ID:200903023604685201

増幅され波長シフトされたパルス列を使用してターゲット材料を処理するためのエネルギー効率の良い方法及びシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外8名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-503483
公開番号(公開出願番号):特表2003-536266
出願日: 2001年05月31日
公開日(公表日): 2003年12月02日
要約:
【要約】ターゲット材料を取り巻く材料の電気的及び/又は物理的特性に不所望な変化を生じることなく、極微領域において極微構造体のようなターゲット材料を処理するためのエネルギー効率の良い方法及びシステムが提供される。このシステムは、処理制御信号を発生するためのコントローラと、上記処理制御信号に基づいて変調された駆動波形を発生するための信号ジェネレータを備えている。上記波形は、準ナノ秒の立ち上り時間を有する。又、このシステムは、ある繰り返し数のレーザパルス列を発生するための第1波長を有する利得スイッチ型パルス半導体シードレーザも備えている。駆動波形は、このレーザをポンピングして、パルス列の各パルスが所定の形状を有するようにする。システムは、更に、パルスの所定形状を著しく変化せずに、パルス列を光学的に増幅して増幅されたパルスを得るためのファイバ増幅サブシステムを備えている。増幅されたパルスは、ほとんど歪をもたず、そしてレーザからのオリジナルパルス列としてほぼ同じ比較的一時的な電力分布を有する。増幅されたパルスの各々は、実質的に方形の一時的電力密度分布と、先鋭な立ち上り時間と、パルス巾と、立ち下り時間とを有する。又、このサブシステムは、上記第1波長を、第2の大きな波長へ制御可能にシフトして、増幅され波長シフトされたパルス列を得るための光ファイバの形態の波長シフタも含む。
請求項(抜粋):
ターゲット材料を取り巻く材料の電気的又は物理的な特性に不所望な変化を生じることなく、極微領域に指定の寸法を有するターゲット材料を処理するためのエネルギー効率の良いレーザベースの方法であって、上記処理が処理エネルギーウインドウ内で行われるような方法において、 第1波長を有するレーザを使用して少なくとも1つのパルスを有するレーザパルス列をある繰り返し数で発生し、上記パルス列の少なくとも1つのパルスは、所定の形状及び大きさを有するものであり、 上記パルス列の少なくとも1つのパルスを光学的に増幅して、増幅されたパルス列を得、その増幅されたパルスの各々は、先鋭な立ち上り時間、パルス巾及び立ち下り時間を有するものであり、 上記第1波長を、その第1波長とは異なる第2波長へ制御可能にシフトして、増幅され波長シフトされたパルス列を得、そして 上記増幅され波長シフトされたパルス列の少なくとも一部分をターゲット材料へ供給してスポットに収束し、上記立ち上り時間は、レーザエネルギーをターゲット材料に効率的に結合するに充分なほど高速であり、上記パルス巾は、ターゲット材料を処理するに充分なものであり、上記立ち下り時間は、ターゲット材料を取り巻く材料への不所望な変化を防止するに充分なほど急速である、という段階を備えた方法。
IPC (5件):
H01S 3/06 ,  B23K 26/00 ,  B81C 1/00 ,  H01L 21/3205 ,  H01S 3/00
FI (5件):
H01S 3/06 B ,  B23K 26/00 C ,  B81C 1/00 ,  H01S 3/00 B ,  H01L 21/88 Z
Fターム (25件):
4E068AC00 ,  4E068CA02 ,  4E068CA03 ,  4E068CA07 ,  4E068DA10 ,  5F033QQ53 ,  5F033RR06 ,  5F033VV11 ,  5F033WW00 ,  5F033WW01 ,  5F033WW07 ,  5F033XX17 ,  5F033XX36 ,  5F072AB07 ,  5F072AK06 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK11 ,  5F072KK30 ,  5F072MM09 ,  5F072PP07 ,  5F072QQ07 ,  5F072RR01 ,  5F072SS06 ,  5F072YY08

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