シクロドデセンの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-180248
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331076
出願日： 1992年05月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】【構成】本発明は、シクロドデカトリエンを選択的に水表化してシクロドデセンを製造する方法に関する。シクロドデカトリエン-1,5,9をルテニウム錯体,3級リン化合物および塩基とからなる触媒の存在下で水素化することを特徴とするシクロドデセンの製造方法である。【効果】本発明では、シクロドデセンへの高い選択率を維持したまま高い反応速度を得ることが出来て、しかも触媒量を削減出来る方法を提供した。

請求項（抜粋）：

シクロドデカトリエン-1,5,9を一般式RuX2(CO)2(R3P)2(Xはハロゲン(Cl,Br,I),Rはアルキル基,シクロアルキル基またはアリール基を示す。)で表されるルテニウム錯体、一般式R13P(R1はアルキル基,シクロアルキル基もしくはアリール基を示す。)で表される3級リン化合物および塩基とからなる触媒の存在下、水素化しシクロドデセンを生成することを特徴とするシクロドデセンの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 13/275 , B01J 31/16 , C07C 5/05 , C07B 61/00 300

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