特許

J-GLOBAL ID：200903023642100349

微細気泡供給装置

発明者： 小林 康宏
出願人/特許権者： テック工業有限会社
代理人 (1件)： 安原 正之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-396908
公開番号（公開出願番号）：特開2003-190753
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月08日
要約：

【要約】【課題】 微細気泡B2のみを効率よく供給可能な供給装置の提供。【解決手段】 中空容器からなり、下部には吐出口21が開口される気泡発生槽2と、先端に汚濁水中で回転可能な攪拌フィン33が設けられ、攪拌フィン33と気泡発生槽2外部とが通気筒32によって連通され、攪拌フィン33が汚濁水中で回転することで通気筒32を経由した気泡発生槽2外部からの気体によって微細気泡B2を含む気泡を発生可能なインペラ部3と、インペラ部3の下方にインペラ部3の回転軸と同軸上に円盤が設けられ、円盤下面には複数の羽根42が固定され、回転することで水流を発生するタービン4と、タービン4の下方に設けられ、円筒形状からなり、下端開口が気泡発生槽2への給水口52を形成する整流筒5と、板状体からなり気泡発生槽2内側面に螺旋状に固定される気泡ガイド板6とからなる

請求項（抜粋）：

汚濁水が入れられる中空容器からなり、下部には吐出口が開口される気泡発生槽と、先端に汚濁水中で回転可能な攪拌フィンが設けられ、攪拌フィンと気泡発生槽外部とが通気筒によって連通され、攪拌フィンが汚濁水中で回転することで通気筒を経由した気泡発生槽外部からの気体によって微細気泡を含む気泡を発生可能なインペラ部と、インペラ部の下方にインペラ部の回転軸と同軸上に円盤が設けられ、円盤下面には複数の羽根が固定され、回転することで水流を発生するタービンと、タービン下方の気泡発生槽底面に開口され、気泡発生槽への吸水が可能な給水口と、からなることを特徴とする微細気泡供給装置。

IPC (4件)：

B01F 7/16 ,  B01F 3/04 ,  B01F 15/02 ,  C02F 1/24 ZAB

FI (5件)：

B01F 7/16 G ,  B01F 7/16 J ,  B01F 3/04 C ,  B01F 15/02 A ,  C02F 1/24 ZAB C

Fターム (22件)：

4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB08 ,  4D037BA03 ,  4D037BB09 ,  4D037CA08 ,  4G035AB17 ,  4G035AC44 ,  4G035AE13 ,  4G037AA03 ,  4G037EA04 ,  4G078AA30 ,  4G078AB20 ,  4G078BA05 ,  4G078CA01 ,  4G078CA08 ,  4G078CA12 ,  4G078CA17 ,  4G078DA01 ,  4G078DA23 ,  4G078DA28 ,  4G078EA10