特許

J-GLOBAL ID：200903023661007406

X線分析装置

発明者： 片上 真澄
出願人/特許権者： 日本電子株式会社 ,  日本電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 菅井 英雄 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-213204
公開番号（公開出願番号）：特開2000-046768
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】X線マッピングにおいて、試料上の各走査位置に含まれる元素の同定を正確に行い、その同定元素の濃度を正確に得る。【解決手段】MCA5は、電子ビームが試料1上の走査領域のどの位置に照射されているかを認識し、その走査位置におけるスペクトルを検知する。そして、MCA5は、このとき検知したスペクトルを、スペクトルマッピングメモリ10の当該走査位置に対応するアドレスに書き込む。処理装置7は、MCA10によるスペクトルマッピングメモリ10へのスペクトルの書き込みとは非同期でスペクトルマッピングメモリ10をアクセス可能であり、取り込んだスペクトルデータに対して所定の処理を施して、試料1上の各走査位置に含まれる元素の同定、及びその同定した元素の濃度を求め、それに基づいて同定した元素のマッピング像を生成してモニタ8に表示する処理を行う。

請求項（抜粋）：

電子ビームを2次元的に走査する走査手段と、X線検出器と、X線検出器の出力信号に基づいて、どのチャネルにどれだけのカウント数が入力したかを検知するマルチチャネルアナライザと、電子ビームを走査したときの各画素位置におけるマルチチャネルアナライザの出力であるX線スペクトルを、各画素位置毎に記憶するスペクトルマッピングメモリと、スペクトルマッピングメモリからスペクトルデータを取り込み、マッピング像の生成、及び表示を行う処理手段とを少なくとも備えることを特徴とするX線分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/252

FI (2件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/252 A

Fターム (25件)：

2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001FA04 ,  2G001FA06 ,  2G001FA08 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA13 ,  2G001HA07 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA13 ,  2G001JA16 ,  2G001KA01 ,  2G001LA02 ,  2G001NA06 ,  2G001NA10 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  5C033PP05 ,  5C033PP06