特許

J-GLOBAL ID：200903023668451468

光触媒被覆の形成方法

発明者： 藤本 恭一 ,  林 宏三
出願人/特許権者： 株式会社常盤電機
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-128307
公開番号（公開出願番号）：特開平11-300273
出願日： 1998年04月21日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：

【要約】【課題】 耐クラック性に優れた光触媒被覆を形成する。【解決手段】 オルガノトリアルコキシシランと、これを加水分解する水と、反応促進剤としてのアルミニウムキレートとを含む混合物を予め予備反応させて得たポリオルガノシルセスキオキサンのプレポリマを含有する予備反応生成物と、反応抑制剤としてのリン酸エステルと、これらの成分を溶解する有機溶剤とを含むバインダ組成物を用い、これに酸化チタン等の光触媒を混合して光触媒コーティング組成物とし、基体表面に塗布し、次いで乾燥硬化する。また、このバインダ組成物をベースコート層の形成に使用する。ラダー構造のポリマであるポリオルガノシルセスキオキサンの硬化被膜を形成すると共に、1液性を有し、しかも常温でも乾燥硬化可能なこのバインダ組成物の使用によって、耐クラック性に優れた光触媒被覆を、どのような基体の表面に対しても容易に形成することができる。

請求項（抜粋）：

光半導体微粒子からなる光触媒と、オルガノトリアルコキシシランと、これを加水分解する水と、反応促進剤としてのアルミニウムキレートとを含む混合物を予め予備反応させて得たポリオルガノシルセスキオキサンのプレポリマを含有する予備反応生成物と、反応抑制剤としてのリン酸エステルと、これらの成分を分散し、または溶解する有機溶剤とを含む光触媒コーティング組成物を基体表面に塗布し、次いで乾燥硬化することを特徴とする光触媒被覆の形成方法。

IPC (5件)：

B05D 7/24 303 ,  B01J 35/02 ,  B05D 5/00 ,  C08G 77/04 ,  C09D183/04

FI (5件)：

B05D 7/24 303 C ,  B01J 35/02 J ,  B05D 5/00 H ,  C08G 77/04 ,  C09D183/04