特許
J-GLOBAL ID：200903023671673706
脱気装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-227601
公開番号（公開出願番号）：特開2000-042530
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：
【要約】【課題】 従来の脱気装置は充填塔方式、気泡塔方式及びスプレー塔方式等があるが、いずれの場合にも一長一短があり、中でもスプレー塔方式の場合には少ないエネルギーロスで良好な気液接触を図ることができる反面、噴霧のための消費動力が大きく、しかも給液量(給液圧)の低下により噴霧粒子の粒子径が不安定になって気液接触効率が低下する。【解決手段】 本発明の脱気装置10は、容器11内の空間に配設され、給水配管12からの被処理水を上部空間へ噴霧するスプレー機構13と、このスプレー機構13による処理水を容器11から給水配管12の被処理水へ合流、循環させる循環配管18と、この循環配管18に配設された循環ポンプ19とを備え、容器11内の処理水の一部を循環配管18を介して循環させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理液を脱気し、その中に含有される溶存気体及び/または揮発性成分を除去して処理液を得る脱気装置において、容器内に脱気用の気体を供給する気体給送手段と、上記容器内の空間に配設され且つ給液配管からの被処理液を上記空間へ噴霧して上記気体給送手段から供給される気体と気液接触させるスプレー機構と、このスプレー機構による処理液を上記容器から上記給液配管の被処理液へ合流、循環させる循環配管と、この循環配管に配設され且つ上記容器内の処理液の一部を循環配管を介して上記給液配管へ合流させる液体給送手段とを備えたことを特徴とする脱気装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C02F 1/20 A
, B01D 19/00 A
4D011AA11
, 4D011AA15
, 4D011AB01
, 4D011AB02
, 4D011AB03
, 4D011AD02
, 4D037AA01
, 4D037AA03
, 4D037AB11
, 4D037AB14
, 4D037BA24
, 4D037BB01
, 4D037BB02
, 4D037BB05
, 4D037BB07
