特許
J-GLOBAL ID:200903023680101707

ガス噴射ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-243148
公開番号(公開出願番号):特開2001-064777
出願日: 1999年08月30日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【課題】 被処理基板に対向するガス噴出部への付着を防止することにより、高い品質の成膜を安定に行なうことができるガス噴射ヘッドを提供する。【解決手段】 少なくとも、付着性成分を含む第1のガスと、付着性成分を含まない第2のガスとを個別に被処理基板に向けて噴射するガス噴射ヘッド20であって、前記ガス噴射ヘッドの前記被処理基板Wに対向する部位には、前記第1及び第2のガスをそれぞれ噴出させる第1及び第2の噴出部70,76が隣接して配置され、前記第2の噴出部76は多孔質体72で構成されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
少なくとも、付着性成分を含む第1のガスと、付着性成分を含まない第2のガスとを個別に被処理基板に向けて噴射するガス噴射ヘッドであって、前記ガス噴射ヘッドの前記被処理基板に対向する部位には、前記第1及び第2のガスをそれぞれ噴出させる第1及び第2の噴出部が隣接して配置され、前記第2の噴出部は多孔質体により構成されていることを特徴とするガス噴射ヘッド。
IPC (2件):
C23C 16/455 ,  H01L 21/31
FI (2件):
C23C 16/455 ,  H01L 21/31 B
Fターム (14件):
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA24 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  5F045AB31 ,  5F045AC08 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045BB15 ,  5F045EF05 ,  5F045EF11

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