特許

J-GLOBAL ID：200903023687606111

固体副生成物の除去工程を含んでなる、硫化水素および二酸化硫黄含有ガスの処理方法ならびに装置

発明者： ファブリス ルコント ,  クリスティアン ストレイシェ ,  ダニエル ブナヨアン ,  セシル バルル-トッリカ
出願人/特許権者： アンスティテュ フランセ デュ ペトロール
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286377
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119010
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 副反応中に生成した固体副生成物を含有する液体画分Fを抜き取り、その画分を処理して副生成物を除去し、事実上副生成物を含まない溶媒を得る方法およびそのための装置を提供する。【解決手段】 好適な温度で、少なくとも1種の触媒を含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもはや硫化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収し、その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫黄を分離する少なくとも硫化水素(H2S)および少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理する方法であって、副生成物を含んでなる層が、分離した液体硫黄と溶媒の間にあること、前記の層から少なくとも固体の副生成物を含有する液体画分Fを抜き取ること、および前記の液体画分Fを接触工程とは異なる処理工程に送り、その後少なくとも大部分が副生成物からなるF1流と、大部分が副生成物をほとんど含まない溶媒からなるF2流を回収することを含んでなる。

請求項（抜粋）：

好適な温度で、少なくとも1種の触媒を含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもはや硫化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収し、その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫黄を分離することからなる少なくとも硫化水素(H2S)および少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理する方法であって、副生成物を含む層が、分離した液体硫黄と溶媒の間にあること、前記層から少なくとも固体の副生成物を含有する液体画分Fを抜き取ること、および前記液体画分Fを接触工程とは異なる処理工程に送り、その後少なくとも大部分が副生成物からなるF1流と、大部分が副生成物をほとんど含まない溶媒からなるF2流を回収することを特徴とする方法。

IPC (5件)：

C01B 17/04 ,  B01D 53/52 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/86 ZAB

FI (3件)：

C01B 17/04 C ,  B01D 53/34 121 F ,  B01D 53/36 ZAB D