特許

J-GLOBAL ID：200903023689059126

マスク・フィールドを備えた膜マスクの製造方法

発明者： トーマス・バイヤー ,  ヨハン・グレシュナー ,  ザムエル・カルト ,  クラウス・マイスナー ,  ハンス・プファイファー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053012
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261584
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 薄い支持壁によって境界が区切られたマスク・フィールドを備える膜マスクの製造方法。【解決手段】 マスク・フィールド8と、単結晶シリコン・ボディによって形成され、膜2によって被われた支持壁1とを備えるマスクを製造する。支持壁1は本質的に異方性プラズマ・エッチング・プロセスによって形成し、支持壁を被覆する膜2に達する直前にウェット・エッチング・ステップを行い、支持壁をシリコン・ボディの(100)方向に対して平行に配置する。

請求項（抜粋）：

マスク・フィールドと、単結晶シリコン・ボディによって形成され、膜(2)によって被われた支持壁(1)とを備えるマスクの製造方法であって、支持壁(1)を本質的に異方性プラズマ・エッチング・プロセスによって形成し、支持壁を被覆する膜(2)に達する直前にウェット・エッチング・ステップを行うことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  G03F 1/16 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭64-015923
  
• 特開平3-110820