特許
J-GLOBAL ID:200903023690758640

スルフィド基を有する化合物を用いたフォトニック結晶

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-332539
公開番号(公開出願番号):特開2004-170447
出願日: 2002年11月15日
公開日(公表日): 2004年06月17日
要約:
【課題】微小球のコロイド懸濁液から溶媒を除去して得られる最密充填構造体(オパール型構造体)より、最密充填構造部分を除去することにより得られる周期構造体(逆オパール型構造体)において光学特性の優れたフォトニック結晶を提供する。【解決手段】上記のオパール型構造体へスルフィド系化合物を必須成分とする高屈折率組成物を埋め込み、硬化させることで得られる逆オパール型構造体は、可視光波長領域において発現するフォトニックバンド効果が、従来のポリマーを用いた逆オパール型構造体に比べて飛躍的に改善されることを確認した。
請求項(抜粋):
微小球のコロイド懸濁液から溶媒除去することにより得られる最密充填構造体(I)(オパール型構造体)の空隙にスルフィド基を含有する化合物を必須成分とする高屈折率組成物を埋め込み、硬化させる工程を経て得られる、微小球と高屈折率組成物から成る複合体(II)から、微小球の最密充填構造部分を除去することにより得られる、スルフィド基を含有する化合物を必須成分とする高屈折率組成物から成る、周期構造体(III)(逆オパール型構造体)。
IPC (2件):
G02B5/28 ,  G02B1/02
FI (2件):
G02B5/28 ,  G02B1/02
Fターム (4件):
2H048GA11 ,  2H048GA32 ,  2H048GA51 ,  2H048GA60
引用特許:
審査官引用 (6件)
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引用文献:
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