特許

J-GLOBAL ID：200903023694235412

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 本田 和義 ,  前澤 可治
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-200603
公開番号（公開出願番号）：特開平5-046984
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 多層構造を有する薄膜型の磁気記録媒体の製造方法において、薄膜形成を途中で中断しなければならず、磁性層の表面を清浄に保つことができないために磁気特性や耐久性が低下するという課題を解決し、機械的強度と磁気特性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 真空中で長尺の支持基板4を走行させながら直接または下地層を介して2層以上の酸化物磁性層を形成する際に酸化物磁性層の積層に先立ち、すでに支持基板4上に形成されている磁性層の表面を酸素イオンを含むイオンビーム11で照射する。【効果】 すでに形成した磁性層の表面を清浄に保つことができるため、優れた磁気特性や引っかき強度等の耐久性を有する磁気記録媒体を製造できる。

請求項（抜粋）：

真空中で長尺の支持基板を走行させながら前記支持基板上に直接または下地層を介して2層以上の酸化物磁性層を積層する磁気記録媒体の製造方法において、前記酸化物磁性層の積層に先立ち、すでに前記支持基板上に形成されている磁性層の表面を酸素イオンを含むイオンビームで照射することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。