特許
J-GLOBAL ID：200903023701025402
ヘテロ環式カルベンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-533129
公開番号（公開出願番号）：特表2000-507239
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：
【要約】本発明は、一般式(I)[式中、R1、R2、R3およびR4は互いに同一でも異なっていてもよく、飽和または不飽和の直鎖状の、枝分かれしたまたは環状の非置換-または置換C1〜C10-アルキル残基、C2〜C5-アルキリデン残基、C2〜C5-アルキリジン残基、C7〜C19-アルアルキル残基またはC6〜C14-アリール残基を意味し、R3およびR4は水素であってもよくまたは共に融合して置換または非置換の炭素原子数3〜7の残基を形成し、Xは炭素原子または窒素原子であり、その際にXが窒素原子を意味する場合には,R3は存在しない。]で表されるヘテロ環式カルベンを製造する方法に関する。この反応はアゾリウム塩と脱プロトン化剤とを純粋な液状アンモニアの中でまたは純粋な有機アミン中でまたは液状アンモニアまたは有機アミンと有機系の極性非プロトン性溶剤との混合物中で脱プロトン化剤と反応させることで実施される。この方法は、特に温度に敏感な種々のカルベンを-75〜0°Cの温度で穏やかな反応条件で製造することを可能とした。
請求項（抜粋）：
) 一般式(I)[式中、R1、R2,R3およびR4は互いに同一でも異なっていてもよく、飽和または不飽和の直鎖状の、枝分かれしたまたは環状の非置換-または置換C1〜C10-アルキル残基、C2-C5-アルキリデン残基、C2-C5-アルキリジン残基、C7〜C19-アルアルキル残基またはC6〜C14-アリール残基を意味し、 R3およびR4は水素であってもよくまたは共に融合して置換または非置換の炭素原子数3〜7の残基を形成し、 Xは炭素原子または窒素原子であり、その際にXが窒素原子を意味する場合には,R3は存在しない。]で表されるヘテロ環式カルベンを製造する方法において、一般式II[式中、R1、R2、R3およびR4は一般式(I)について規定した意味を有しそしてA-はハロゲニド-、疑似ハロゲニド-、ボラート-、ホスファート-、カルボキシレート-イオンおよび金属錯塩アニオンである。]で表されるアゾリウム塩を純粋な液状アンモニアの中でまたは純粋な有機アミン中でまたは液状アンモニアまたは有機アミンと有機系の極性非プロトン性溶剤との混合物中で脱プロトン化剤と反応させることを特徴とする、上記方法。
IPC (6件)：
C07D233/10
, C07D233/12
, C07D233/14
, C07D233/16
, C07D401/06
, C07F 9/6506
C07D233/10
, C07D233/12
, C07D233/14
, C07D233/16
, C07D401/06
, C07F 9/6506
