特許

J-GLOBAL ID：200903023712499953

ポリエチレンナフタレートの製造方法

発明者： 川本 二三男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195313
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041281
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【目的】製膜時の静電印加性に優れ、異物が少なく、かつ透明性も良好な写真用フィルム支持体に適したポリエチレンナフタレートを製造する方法を提供すること。【構成】2,6ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールを主成分とし、グリコール可溶性のマグネシウム化合物、マンガン化合物または亜鉛化合物から選ばれる1または2以上の化合物と、含窒素塩基性化合物とリン化合物とを共存させ、グリコール可溶性ゲルマニウム化合物を重合触媒としてポリエチレンナフタレートを製造するに際し、それぞれポリマー1tonに対するマグネシウム、マンガン、亜鉛原子の添加量を(Mg原子)、リン原子の添加量比を(Pppm)、含窒素塩基性化合物の添加モル数を(Aモル)およびゲルマニウム原子の添加量(Gg原子)とする時、下記式を満足するように添加すること。(1) 0.005<M<1.0 (2) 0.00015<M/P<0.024 (3) 0.01<A/(M+G)<0.70 (4) 0.21<G<2.18。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるナフタレンジカルボン酸を主とするナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールを主とするグリコールとを主成分とし、グリコール可溶性マグネシウム化合物、グリコール可溶性マンガン化合物またはグリコール可溶性亜鉛化合物から選ばれる1または2以上の化合物と、含窒素塩基性化合物とリン化合物とを共存させてポリエチレンナフタレートを製造するに際し、重合触媒としてグリコール可溶性ゲルマニウム化合物をグリコール溶液として、下記式を満足するように添加することを特徴とするポリエチレンナフタレートの製造方法。一般式(I)【化1】 0.005 < M < 1.0 (1) 0.00015 < M/P < 0.024 (2) 0.01 < A/(M+G) < 0.70 (3) 0.21 < G < 2.18 (4)M:マグネシウム、マンガン及び亜鉛原子のポリマーに対する添加量 〔g原子/t〕P:リン原子のポリマーに対する添加量比 〔PPM〕A:含窒素塩基性化合物のポリマーに対する添加モル数 〔モル/t〕G:ゲルマニウム原子のポリマーに対する添加量 〔g原子/t〕

IPC (5件)：

C08G 63/189 NMY ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/49 KKC ,  C08L 67/02 KJV ,  G03C 1/76