特許

J-GLOBAL ID：200903023713636636

インクジェットプリンタヘッドの製造方法

発明者： 勝海 一成 ,  宮澤 利夫 ,  塚本 敏広
出願人/特許権者： 株式会社テック ,  東芝イーエムアイ株式会社
代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093462
公開番号（公開出願番号）：特開平8-281957
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年10月29日
要約：

【要約】【目的】 インクジェットプリンタヘッドの基板の溝内に無電解メッキ法で電極を形成する場合に、メッキ膜形成時の膜応力によるより電極内に亀裂が発生することを防止する。【構成】 基板19をメッキ膜の析出速度が速い第1メッキ液に浸漬させて第1メッキ膜33を形成し、ついで、膜応力が小さいメッキ膜を析出させる第2メッキ液に浸漬させることにより第1メッキ膜33の上に第2メッキ膜34を形成し、第1メッキ膜33と第2メッキ膜34とからなる二層構造の電極28を形成する。

請求項（抜粋）：

底板の上に板厚方向に分極された少なくとも1枚以上の圧電部材を積層して基板を形成する基板形成工程と、この基板に互いに平行な複数の溝とこれらの溝を隔てる少なくとも一部が前記圧電部材からなる支柱とを等間隔にこの基板の表面側から形成する溝形成工程と、前記溝の内面に無電解メッキ法により電極を形成する電極形成工程と、天板とインク吐出口を有するノズル板とを前記基板に取り付けて前記溝を閉塞することにより圧力室を形成する圧力室形成工程とを含む工程により形成するインクジェットプリンタヘッドの製造方法において、前記基板をメッキ膜の析出速度が速い第1メッキ液に浸漬させて第1メッキ膜を形成し、ついで、膜応力が小さいメッキ膜を析出させる第2メッキ液に前記基板を浸漬させて前記第1メッキ膜の上に第2メッキ膜を形成することにより前記電極を形成することを特徴とするインクジェットプリンタヘッドの製造方法。

IPC (6件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  C23C 18/34 ,  C23C 18/36 ,  C23C 18/52

FI (5件)：

B41J 3/04 103 H ,  C23C 18/34 ,  C23C 18/36 ,  C23C 18/52 B ,  B41J 3/04 103 A