特許
J-GLOBAL ID:200903023722265004
ジルコニア焼結体及びその製造方法並びにその用途
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-289157
公開番号(公開出願番号):特開平11-240757
出願日: 1998年10月12日
公開日(公表日): 1999年09月07日
要約:
【要約】【構成】本発明の目的は、熱水存在下で焼結体内部への劣化の進行を抑制し、これに加えて焼結体の表面平滑度の安定性にも優れたジルコニア焼結体の提供;ならびにそのジルコニア焼結体を簡易なプロセスにより製造することのできる方法の提供を目的とするものである。【解決手段】Y2O3が固溶したジルコニア焼結体であって、該ジルコニア焼結体の正方相の結晶粒子の配向度が45%以下であるジルコニア焼結体、及び、Y2O3を含みAl2O3濃度が0〜15重量%,BET比表面積が14〜17m2/g、結晶子径が22〜30nm、平均粒径が0.3〜0.9μm、かつ、単斜相率が22%以下からなるジルコニア微粉末を成形して焼結することを特徴とする当該ジルコニア焼結体の製造方法、並びに、当該ジルコニア焼結体を精密加工することを特徴とする光ファイバコネクター部品、粉砕機用ボール、ポンプ部品、半導体用基板及び生体材料部材。
請求項(抜粋):
Y2O3が固溶したジルコニア焼結体であって、該ジルコニア焼結体の正方相の結晶粒子の配向度が45%以下であるジルコニア焼結体。
IPC (8件):
C04B 35/48
, A61L 27/00
, B02C 17/20
, B26B 3/00
, C01G 25/02
, F16C 33/24
, G02B 6/36
, H01L 21/02
FI (8件):
C04B 35/48 C
, A61L 27/00 H
, B02C 17/20
, B26B 3/00 C
, C01G 25/02
, F16C 33/24 A
, G02B 6/36
, H01L 21/02 B
引用特許:
審査官引用 (6件)
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ジルコニア焼結体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-304684
出願人:京セラ株式会社
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特許第2540880号
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特許第2690084号
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