特許

J-GLOBAL ID：200903023733737552

無機酸化物周期構造体

発明者： 深澤 憲正 ,  金 仁華
出願人/特許権者： 財団法人川村理化学研究所
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-298828
公開番号（公開出願番号）：特開2006-110653
出願日： 2004年10月13日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】 均一な三次元周期を持って配列した細孔を有し、構造安定性及び耐薬品性に優れた強固な構造を有する無機酸化物周期構造体、およびこれら構造体の簡便な製造方法を提供すること。【解決手段】 無機酸化物の構造体中に、孔径が20nm〜10μmの範囲にある細孔が三次元周期を持って配列し、隣接する細孔の中心間を結ぶ線上の無機酸化物厚さが5nm〜10μmの範囲にある無機酸化物周期構造体、及び有機高分子化合物微粒子をコア部、架橋した親水性有機高分子化合物をシェル部として有するコア-シェル粒子を、水系溶媒に分散させたゾルを得る工程、該ゾルに金属系アルコキシドを加えてゾル-ゲル反応させ、架橋した親水性有機高分子化合物と、生成する無機酸化物とが一体化された複合体中に、前記コア部が三次元周期を持って配列した構造体を得る工程、該構造体を焼結して無機酸化物周期構造体を得る工程からなる製造方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

無機酸化物の構造体中に、孔径が20nm〜10μmの範囲にある細孔が三次元周期を持って配列し、隣接する細孔の中心間を結ぶ線上の無機酸化物厚さが5nm〜10μmの範囲にある無機酸化物周期構造体。

IPC (4件)：

B82B 1/00 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  B82B 3/00

FI (4件)：

B82B1/00 ,  B81B1/00 ,  B81C5/00 ,  B82B3/00

Fターム (10件)：

4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CD02 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072NN21 ,  4G072TT08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 塗布膜転写具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-335758   出願人：プラス株式会社
• オパール様回折発色膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-041038   出願人：新技術事業団
• 周期性を示す材料の物質を製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-029411   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド