平面状基板の洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：國分孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097205
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275408
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】例えばウエハ等の平面状基板を回転させながら洗浄液を噴射してその基板を洗浄する際に、基板の表面全体を均一にかつ効率よく洗浄することができるようにする。【構成】スピンチャック12によってウエハ1を保持して回転させ、噴射ノズル20をウエハ1の半径方向をスキャンするように移動させながら、その噴射ノズル20によってウエハ1の表面に洗浄液4を噴射する。ウエハ1の回転速度と噴射ノズル20の移動速度とを制御部40によって互いに関連させて制御する。また、噴射ノズル20に供給する洗浄液4に超音波ジェネレータ34によって超音波振動を付与する。ウエハ1の表面全体が均一にかつ効率よく洗浄される。

請求項（抜粋）：

洗浄すべき平面状基板をその面内において回転させる回転駆動手段と、前記基板の表面に洗浄液を噴射する噴射ノズルと、この噴射ノズルに洗浄液を所定の圧力で供給する洗浄液供給手段と、前記噴射ノズルを前記基板の回転による半径方向に沿って移動させる噴射ノズル移動手段とを具備する平面状基板の洗浄装置。

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