特許
J-GLOBAL ID：200903023742835680
アクティブマトリクス基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-153217
公開番号（公開出願番号）：特開平5-341321
出願日： 1992年06月12日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 アクティブマトリクス基板における下層配線段差が引き起こす上層配線とのショ-ト、及び上層配線のパタ-ニング工程における断線を解消することを目的とする。【構成】 透明ガラス基板上の一主面上に配線群を形成した後、透明絶縁膜を堆積させさらにネガレジストを塗布し、前記配線群をマスクに前記透明基板のもう一方の面より露光を行い、配線群上の透明絶縁膜を除去し、ゲ-ト配線段差を低減する。
請求項（抜粋）：
透明基板の一主面上に配線群とアクティブ素子を有するアクティブマトリクス基板において、前記配線群を形成する後の工程において、透明絶縁膜を堆積させる工程の後、ネガレジストをもちいて前記配線群をマスクに前記透明基板のもう一方の面より露光を行い、前記配線群上の前記透明絶縁膜を除去する工程を有するアクティブマトリクス基板の製造方法。
IPC (4件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/133 550
, H01L 27/12
, H01L 29/784
