特許
J-GLOBAL ID：200903023746073890
プラズマ加熱機構を有するプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-206422
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053173
出願日： 1992年08月03日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、ジュール加熱あるいは電磁波加熱あるいはビーム加熱あるいは断熱圧縮加熱等のプラズマ加熱機構を設けるように構成した。【効果】生成されたプラズマを追加加熱することができるので、高密度プラズマが生成され、高速プラズマ処理が可能になるという効果がある。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置とより成るプラズマ処理装置において、プラズマ加熱機構を設けたことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
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