特許

J-GLOBAL ID：200903023752581288

投影法及び逆投影法並びにその実行アルゴリズム

発明者： デ・マン,ブルーノ・クリスチアン・バーナード ,  バス,サミト・クマー
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (4件)： 松本 研一 ,  小倉 博 ,  伊藤 信和 ,  黒川 俊久
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-586840
公開番号（公開出願番号）：特表2005-522304
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：

【課題】高周波アーチファクトを減弱/除去するために画素/検出器ビンに対して線束を投影及び逆投影する方法を提供する。【解決手段】 最初の2つの方法は、画素駆動線形補間技法及び線束駆動線形補間技法をそれぞれ適合させることである。これらの技法では、各画素/ビンのウィンドウ又は影が動的に調整され、検出器ビン/画素上に投影されて影間のギャップが除去される。これにより、特定の検出器ビンに対する各画素の影響(又はその逆)を適切に重み付けすることが可能となる。第3の技法は距離駆動技法であり、該技法では、画素及び検出器ビンの遷移がそれぞれ共通の軸上に投影される。これにより、より少ない計算時間及び改善されたアーチファクトのない画像でビン/画素の各々に対する画素/ビンの各々の寄与を決定することが可能となる。

請求項（抜粋）：

複数のビンを有する検出器上に画素グリッド内の画素を投影するか、又はその逆を行う段階と、 画素と検出器ビンのうちの一方に対する正方形ウィンドウの寸法を、隣接するウィンドウが前記検出器の検出器ビンと前記画像画素のうちの一方に連続する影を形成するように動的に調整する段階と、 前記検出器の各ビンに対する各画素の影響及びその逆を決定する段階と、 を含む画像処理方法。

IPC (3件)：

A61B6/03 ,  G06T1/00 ,  G06T11/00

FI (3件)：

A61B6/03 350U ,  G06T1/00 290B ,  G06T11/00 100A

Fターム (15件)：

4C093CA13 ,  4C093FE12 ,  4C093FE22 ,  4C093FF42 ,  5B057AA09 ,  5B057BA03 ,  5B057BA17 ,  5B057CA08 ,  5B057CA11 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CD14 ,  5B057CE02 ,  5B080DA07 ,  5B080DA08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第5,848,114号公報
  
• 米国特許第6,351,514号公報
  
• 米国特許第6,339,632号公報