特許
J-GLOBAL ID：200903023756124736
気相成長用ガス供給装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-346217
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196414
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】気相成長法において、粘性の高い有機金属などの液体原料を複雑な装置を用いることなく、安定に効率よく気化輸送する。【構成】円筒状の内面を有する気密容器1の中心にガス導入管3を設け、その下端のガス吐出口6を容器1の内底面より1mm上に位置させる。吐出口6の上方1cmの位置に、有孔部材7を設ける。有孔部材7の孔の大きさは液体原料が表面張力によって下方に滴下しないように、0.1mm〜2.0mmとする。
請求項（抜粋）：
化学気相成長法における液体原料の蒸気を含んだキャリアガスの供給装置において、気密容器を、複数の貫通孔を有する有孔部材で上下室に区画し、上室にはガス導出管を取付けると共に有孔部材上に液体原料貯留部を形成し、下室にはキャリアガスを導入するガス導入管を開口させたことを特徴とする気相成長用ガス供給装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C30B 25/14
, H01L 21/31
