光素子作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-179409
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026881
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】回折格子の形状を精度良く評価することで、これを用いた半導体レーザなどの光素子を無駄を抑制した状態で作製できるようにする。【解決手段】非接触モードの原子間力顕微鏡(atomic force microscope:AFM)により、回折格子5を形成した段階で、その回折格子5の形状を観察し、良否を判断する

請求項（抜粋）：

回折格子を有する光素子を作製する光素子作製方法において、前記回折格子を形成した段階で、前記回折格子が形成された素子を破壊せず、かつ非接触な状態で前記回折格子の形状を観察・測定し、その観察の結果得られた前記回折格子の形状およびその測定の結果得られた数値的データを基に、前記回折格子上に前記光素子を構成する層を形成した状態の結合効率を算出し、その算出した結合効率が所望の範囲となっている場合、前記回折格子が所望の形状となっているものと判断することを特徴とする光素子作製方法。

IPC (3件)：

H01S 3/18 , G02B 5/18 , G01N 37/00

FI (3件)：

H01S 3/18 , G02B 5/18 , G01N 37/00 F

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