特許

J-GLOBAL ID：200903023760245220

アライメント方法及び露光装置

発明者： 安田 雅彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-330772
公開番号（公開出願番号）：特開2000-156336
出願日： 1998年11月20日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】 複数枚の基板に対して順次アライメント及び転写を行う際に、重ね合わせ精度を低下させることなく、所定のウエハに対してサーチアライメントを省略してスループットを向上する。【解決手段】 ウエハW上の各ショット領域31n にサーチマーク32X,32Y、及びEGAマーク33X,33Yが形成されている。1枚目のウエハに対してはショット領域A1〜A3でサーチマーク32X,32Yの位置を計測した後、サンプルショットB1〜B8でEGAマーク33X,33Yの位置を計測する。2枚目以降のウエハでは、1枚目のウエハのサーチアライメント結果を用いることによってサーチアライメントを省略する。これによる精度低下を防止するために、サンプルショットB1,B2において計測されるEGAマーク33X,33Yの位置ずれ量に応じて、ウエハを位置決めする座標系を補正する。

請求項（抜粋）：

基板上にマスクパターンを転写するに際して、前記基板と前記マスクパターンとの位置合わせを行うためのアライメント方法において、1枚、又は複数枚の基板に対してそれぞれ該基板上の所定の位置合わせ用マークの位置ずれ量の検出、該検出結果に基づく位置合わせ、及び前記マスクパターンの転写を行った後、次の基板に前記マスクパターンを転写する際に、既に転写が行われた基板上の前記位置合わせ用マークの位置ずれ量の検出結果の少なくとも一部を用いて、前記基板上の所定の位置合わせ用マークを所定の計測領域内に相対移動して位置ずれ量を検出し、該検出結果に基づいて前記基板と前記マスクパターンとの位置合わせを行うことを特徴とするアライメント方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 525 X ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 520 A

Fターム (12件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB05 ,  5F046ED02 ,  5F046FA03 ,  5F046FB01 ,  5F046FB12 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06 ,  5F046FC08