特許
J-GLOBAL ID：200903023763042265
誘導加熱調理兼用電子レンジ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-321991
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050885
出願日： 1995年12月11日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 マイクロウェーブ調理時の加熱室外へのマイクロウェーブ損失は良好に遮断し、誘導加熱調理時の高周波磁界は加熱室内に良好に透過して加熱及び調理を効率的に行い得る誘導加熱調理兼用電子レンジを提供しようとするものである。【解決手段】 複数個の金属線が所定間隔を有して配列された第1金属線部と、該第1金属線部と所定距離離隔され所定角度に対向交差するように複数個の金属線が所定間隔を有して配列された第2金属線部とからなる遮蔽板が加熱室の誘導コイル上面に配置されて、誘導加熱調理兼用電子レンジが構成される。
請求項（抜粋）：
飲食物を加熱する加熱室と、該加熱室底面下部に設置された誘導コイル(100)と、該加熱室の側壁内に設置されたマグネトロンと、を備え、誘導加熱調理及びマイクロウェーブ調理を選択的に行う誘導加熱調理兼用電子レンジであって、複数個の金属線が所定間隔(w)を有して網状に配列された第1金属線部(201)と、該第1金属線部(201)と所定距離(d)離隔され所定角度に対向交差するように複数個の金属線が所定間隔(l)を有して網状に配列された第2金属線部(202)と、を備えた2枚1組の遮蔽板(200a)が前記誘導コイル(100)上方加熱室内底面上に配置され、マイクロウェーブ調理時に発生するマイクロウェーブの加熱室下方側への損失は遮断し、誘導加熱調理時に発生する高周波磁界は上方の加熱室内に透過させる誘導加熱調理兼用電子レンジ。
IPC (2件)：
H05B 11/00
, F24C 7/02 531
H05B 11/00 F
, H05B 11/00 Z
, F24C 7/02 531 B
