特許

J-GLOBAL ID：200903023792177676

フォトレジスト剥離液

発明者： 荒井 豪明 ,  古海 正仁 ,  上森 茂樹
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 折口 信五
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-363722
公開番号（公開出願番号）：特開2006-171357
出願日： 2004年12月15日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 リブ材等の部材を痛めることなく短時間でフォトレジストを除去するフォトレジスト剥離液を提供する。【解決手段】N(ROH)3(式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基である。ただし、3個のRの全てが同一の炭素数のアルキレン基であるものを除く。)で表されるアルカノールアミン(A)と溶媒成分(B)とを含有しているフォトレジスト剥離液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記の式(1)で表されるアルカノールアミン(A)と溶媒成分(B)とを含有することを特徴とするフォトレジスト剥離液。 N(ROH)3 ・・・(1) (式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基である。ただし、3個のRの全てが同一の炭素数のアルキレン基である場合を除く。)

IPC (4件)：

G03F 7/42 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/42 ,  B08B3/08 Z ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/30 572B

Fターム (12件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096LA03 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB01 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  5F046MA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 剥離液及び剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-165751   出願人：東京応化工業株式会社