特許

J-GLOBAL ID：200903023802997596

真空ベント方法、及び真空ベント装置

発明者： 五十嵐 浩一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-138020
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325774
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 パーティクルの舞い上げ及び静電気によるパーティクルの被処理体(製品等)の付着を防止し、半導体や各種電子部品製造等における、静電気によるパーティクル付着により生じる不都合を抑制した、真空ベント方法、及び真空ベント装置を提供する。【解決手段】 ?@真空装置の搬送用チャンバー2の真空破壊を行う真空ベント方法であって、イオン化した気体を、気体拡散用治具7を介して真空チャンバーに導入するして真空破壊を行う真空ベント方法。?A真空装置の搬送用チャンバー2の真空破壊を行う真空ベント装置であって、気体拡散機能を備えるブレークフィルター7と、気体をイオン化するイオン発生源10とをともに有し、双方を介して真空装置の搬送用チャンバーに気体を導入して真空破壊を行う真空ベント装置。

請求項（抜粋）：

真空装置の搬送用チャンバーの真空破壊を行う真空ベント方法であって、イオン化した気体を、気体拡散用治具を介して真空チャンバーに導入するして真空破壊を行うことを特徴とする真空ベント方法。

IPC (2件)：

B01J 3/02 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

B01J 3/02 M ,  H01L 21/68 B

Fターム (6件)：

5F031CA02 ,  5F031NA01 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031PA21 ,  5F031PA26