特許

J-GLOBAL ID：200903023803665589

投影露光装置

発明者： 今井 裕二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233987
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084747
出願日： 1992年09月02日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】 照明光学系を大型化することなく、ウエハステージ上のパターン板を用いてレチクル上の基準マークの位置を計測可能とする。【構成】 ウエハステージ7上に設けられたパターン板8の下面より、露光光ILと同一波長の照明光LBを基準パターン(MX、MY)に照射する。光電検出器14は、基準パターン(MX、MY)を透過して投影光学系6を介してレチクルRのパターン面に照射され、ここで反射されて投影光学系6、及び基準パターン(MX、MY)を介して戻された光束を受光する。信号処理ユニット22は、ウエハステージ7を微動して基準パターン(MX、MY)の投影像と基準マーク(RX1 、RY1)とを相対移動させたとき、光電検出器14から出力される検出信号S1と干渉計17からの位置信号とに基づいて基準マークの位置を検出する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンを感光基板に結像投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸と垂直な面内で2次元移動可能な基板ステージとを備えた投影露光装置において、前記基板ステージの一部に設けられ、所定形状の基準パターンを有するパターン板と;該パターン板の下面より前記照明光とほぼ同一波長の照明光を前記基準パターンに照射する照明手段と;前記基準パターンを透過して前記投影光学系を介して前記マスクのパターン面に照射され、該パターン面から反射されて前記投影光学系及び前記基準パターンを介して戻された光束を受光する受光手段と;該受光手段から出力される検出信号に基づいて前記基準マークの位置を検出する位置検出手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/22

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 M