特許
J-GLOBAL ID：200903023805131859
コイルの中心部分と周辺部分より低い磁束密度をプラズマにカップリングする中間部分を持つコイルを有する真空プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-518054
公開番号（公開出願番号）：特表2002-514356
出願日： 1998年09月16日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：
【要約】RFプラズマで加工物を処理する真空プラズマ処理装置が、内部部分、中間部分及び周辺部分を含むプラズマ励起用コイルを有する。この内部部分と周辺部分はその巻き部分が互いに接続され、また、内部コイル部分と周辺コイル部分のおのおのによってプラズマにカップリングされる磁束密度が中間コイル部分によってプラズマにカップリングされる磁束密度を上回るように配置されている。このコイルは電気的に並列な2つの螺旋形状の巻き線を含み、この巻き線はおのおのがその内部端子が整合用ネットワークの1つの出力端子及び、整合用ネットワークの別の出力端子にコンデンサを介して接続されている1つの出力端子に接続されている。コンデンサのキャパシタンスと、プラズマRF励起波長に対する巻き線の長さとは、コイル内を流れる電流の最大と最小の定在波値がそれぞれ周辺コイル部分と内部コイル部分に来るような値となっている。コイルと加工物の周辺部は同様の矩形の寸法と形状になっている。
請求項（抜粋）：
加工物が位置付けされるようになっている真空チャンバであり、前記チャンバが、前記加工物を処理するためにプラズマに変換することが可能な気体を前記チャンバ内に導入する入り口を有するチャンバと;前記気体をプラズマ状態に励起するためにRFフィールドを前記気体にカップリングするように位置付けされたコイルであり、前記コイルが内部部分、中間部分及び周辺部分を含み、前記内部部分と前記周辺部分の巻き部分が、前記内部コイル部分と前記周辺コイル部分のおのおのによってプラズマにカップリングされる磁束密度が前記中間コイル部分によってプラズマにカップリングされる磁束密度を上回るように互いに接続され配置されており、前記コイルと前記加工物の周辺部が類似の周辺寸法と形状を有しているコイルと;を含む、プラズマで前記加工物を処理する真空プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, H01J 37/32
, H05H 1/46
H01J 37/32
, H05H 1/46 L
, H01L 21/302 B
