洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-362688
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176790
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】基板例えば半導体ウエハの表面と裏面とを洗浄する場合に、洗浄装置全体の小型化及び洗浄処理時間の短縮を図ること。【解決手段】ウエハWを当該ウエハの輪郭に沿って間隔をおいて設けられた回転ガイド部材2により水平に保持し、当該回転ガイド部材2を回転させることにより、ウエハWの周縁部を周方向に送り出して回転させる。ウエハWの表面及び裏面を洗浄する洗浄ブラシ41,42と、ウエハWの表面及び裏面に夫々洗浄液を供給するノズル61,62とを設け、ウエハWと洗浄ブラシ41,42とを摺動させることにより、当該ウエハWの両面を同時に洗浄する。この様な装置では従来必要であった2つの洗浄部や反転部が不要となるので、装置全体が小形化されると共に、処理工程も減少するので洗浄処理時間が短縮される。

請求項（抜粋）：

各々鉛直な軸の周りに回転自在に円形の基板の輪郭に沿って間隔をおいて設けられ、前記基板が水平となるように基板の周縁部を外周面により保持しかつガイドするための複数の回転ガイド部材と、これら複数の回転ガイド部材のうち少なくとも一つを駆動して回転させるための駆動部と、前記回転ガイド部材に保持された基板の表面及び裏面に夫々接触して、基板の回転時に当該表面及び裏面を洗浄する第1及び第2の洗浄部材と、前記回転ガイド部材に保持された基板の表面及び裏面に夫々洗浄液を供給する第1及び第2の洗浄液供給部と、を備え、前記基板は、前記駆動部により回転する回転ガイド部材により周縁部が周方向に送り出され、各回転ガイド部材にガイドされながら水平方向に回転することを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 644 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 644 C , H01L 21/304 644 G

引用特許：

出願人引用 (6件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-223859 出願人：株式会社芝浦製作所
特開平1-105376
特開昭60-143634

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審査官引用 (6件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-223859 出願人：株式会社芝浦製作所
特開平1-105376
特開平1-184831

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