特許

J-GLOBAL ID：200903023820504599

塩素イオン選択性電極用応答膜の製造方法

発明者： 植松 宏彰
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194042
公開番号（公開出願番号）：特開平6-138081
出願日： 1987年03月16日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】 電極によるバラツキが少なく、かつ他のアニオンの影響を受け難い安定した性能を有するとともに、保存期間や使用有効期間が長いといった優れた特性を有する塩素イオン選択性電極用応答膜を作業性よく短期間に製造できる製造方法を提供する。【構成】 重量比で8:1〜1:2としたエポキシ樹脂および塩化ビニル樹脂と、第4級アンモニウム塩と、硬化剤との混合物を60±5°Cの温度に保って4〜5日間で硬化させる。

請求項（抜粋）：

重量比で8:1〜1:2としたエポキシ樹脂および塩化ビニル樹脂と、第4級アンモニウム塩と、硬化剤との混合物を60°±5°Cの温度に保って4〜5日間で硬化させることを特徴とする塩素イオン選択性電極用応答膜の製造方法。

IPC (4件)：

G01N 27/333 ,  C08J 5/18 CEV ,  C08J 5/18 CFC ,  C08J 5/22 104

FI (2件)：

G01N 27/30 331 C ,  G01N 27/30 331 Z